納糯三維Nanoscribe：推薦指數(shù)★★★★★
納糯三維科技（上海）有限公司成立于2017年11月8日，是德國Nanoscribe在中國的全資子公司。德國Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的衍生公司，現(xiàn)隸屬于LAB14集團，在高精度增材制造領域處于全球地位。
Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術，其Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細結(jié)構分辨率高出傳統(tǒng)高精3D打印機100倍的三維微納器件，而全新系列Quantum X平臺系列更是世界上個基于雙光子灰度光刻（2GL）的工業(yè)級打印系統(tǒng)，納糯三維科技依托母公司的技術優(yōu)勢，在微納制造技術方面處于地位。
灰度光刻先進封裝設備的技術原理與核心優(yōu)勢：
1、雙光子灰度光刻技術（2GL?）
該技術通過激光能量梯度調(diào)控，實現(xiàn)單體素調(diào)諧，結(jié)合雙光子聚合（2PP）的高分辨率與專利體素調(diào)整工藝，顯著減少打印層數(shù)。其動態(tài)體素調(diào)整技術使打印速度較傳統(tǒng)雙光子光刻系統(tǒng)提升10至60倍，同時保持光學級表面質(zhì)量（表面粗糙度≤10nm）與亞微米級形狀精度（最小特征尺寸100nm）。
2、全結(jié)構覆蓋與高精度控制
超高精度耦合結(jié)構加工：分辨率低至100納米以下，可直接打印光纖-芯片、芯片-芯片耦合所需的微透鏡陣列、漸變折射率透鏡（GRIN Lens）等結(jié)構，耦合損耗控制在1.5dB以內(nèi)，滿足光通訊、量子光子學的低損耗需求。
多材料兼容與異質(zhì)集成：支持光刻膠、玻璃、硅基材料及生物相容性材料，可在同一芯片上實現(xiàn)“微光學結(jié)構+導電互聯(lián)通道”的一體化打印，解決傳統(tǒng)工藝中不同材料分步加工的對準難題。
跨尺度結(jié)構制造：既能實現(xiàn)納米級精細特征（如光子晶體孔徑<200nm），又能兼顧毫米級整體結(jié)構（如微流控光學芯片），適配從光子芯片封裝到集成光學模塊的全尺寸加工需求。
3、自動化與智能化
自動傾斜補償功能：避免傾斜襯底上的拼接縫隙或階梯效應，確保復雜結(jié)構的制造精度。
智能軟件向?qū)В汉喕瘡臏蕚涞絼?chuàng)建打印作業(yè)的流程，支持多種文件格式（如Bmp、png、tiff、dxf、gds等）。
實時監(jiān)控系統(tǒng)：配備三個實時監(jiān)控攝像頭，支持直觀操作，用戶可直接在內(nèi)置觸控屏上檢查作業(yè)狀態(tài)并調(diào)整打印效果。
【公司定位】作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅(qū)和創(chuàng)新者，從科研實驗室到工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場，Nanoscribe提供高精度增材制造解決方案，顯著簡化制造流程、提升效率與精度。
【主營業(yè)務】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進封裝、光互聯(lián)納米制造
【應用領域】微光學、微機械、生物醫(yī)學工程、光子學技術
【產(chǎn)品優(yōu)勢】Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術，全新Quantum X系列具有專利雙光子灰度光刻(2GL)，可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構制造，A2PL技術支持自動檢測芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預結(jié)構化基底上的定位標記，并以納米級對準精度在指定位置直接打印自由曲面光學元件，確保打印結(jié)構與光學軸嚴格對齊。
【產(chǎn)品評價】Quantum X align系統(tǒng)代表了新一代對準3D打印技術的發(fā)展方向，可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構制造，并具備自動對準能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應用領域的多樣化需求.
【品牌客戶】哈佛大學，加州理工學院，牛津大學，斯圖加特大學，麻省理工學院等
【技術領域】3D微納加工、雙光子加工
【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術在各項關鍵性突破研究中被提到，出現(xiàn)在2,100多份經(jīng)同行評審的期刊出版物中
產(chǎn)品與服務：
納糯三維科技在中國市場主要推廣Nanoscribe的一系列3D打印設備，如Quantum X align系統(tǒng)等，這些設備可廣泛應用于微光學、微機械、生物醫(yī)學工程、光子學技術等領域。此外，公司還承擔著系統(tǒng)安裝、維護及專業(yè)培訓等本土化服務，為中國客戶提供了的解決方案。