閉環(huán)之困：損耗與機(jī)遇并存

ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價(jià)值的廢料往往被簡(jiǎn)單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

物理分離法中的機(jī)械剝離技術(shù)，是通過破碎、篩分和浮選等方法，將ITO涂層與玻璃基板進(jìn)行分離。隨后，再結(jié)合化學(xué)處理對(duì)分離出的ITO涂層進(jìn)行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收，但需注意，其純度可能相對(duì)較低。

銦靶材回收的主要任務(wù)是將銦從靶材中的其他金屬和材料中分離出來，并將其提純至高純度?；厥辗椒òɑ鸱ā穹ê碗娀瘜W(xué)法。

火法冶金工藝使用高溫熔煉和精煉來回收銦。這種方法適用于大規(guī)?；厥?，但存在一些缺點(diǎn)，如產(chǎn)生危險(xiǎn)廢物、高能耗，以及可能損失有價(jià)值的銦。

濕法冶金工藝?yán)没瘜W(xué)浸出劑將銦從靶材中溶解出來。這種方法比火法更環(huán)保，適用于從成分復(fù)雜的靶材中回收銦。然而，這一過程可能較為復(fù)雜，需要使用危險(xiǎn)化學(xué)品。

電化學(xué)過程通過電流將銦從靶材中溶解和回收。這種方法也比火法更環(huán)保，可以回收較高純度的銦。但這一過程可能較為復(fù)雜，需要專門的設(shè)備和專業(yè)知識(shí)。

在分離銦和其他金屬和材料時(shí)，可以采用幾種方法，包括選擇性溶解、溶劑萃取、離子交換和沉淀。選擇性溶解使用化學(xué)浸出劑選擇性地溶解銦，而保持其他金屬和材料不變。溶劑萃取使用有機(jī)溶劑選擇性地提取銦。離子交換則通過樹脂吸附銦離子，同時(shí)留下其他離子。沉淀法使用化學(xué)試劑使銦從溶液中沉淀出來，而將其他金屬和材料留在溶液中。