廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復雜：除In?O?、SnO?外，含粘結劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現(xiàn)價值化的關鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

ITO（氧化銦錫，Indium Tin Oxide）靶材廣泛應用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽能電池等行業(yè)。隨著ITO靶材的廣泛使用，其回收再利用成為降低成本、減少資源浪費、保護環(huán)境的重要環(huán)節(jié)。

ITO靶材回收流程：

1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現(xiàn)，包括化學處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產各種半導體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環(huán)境的影響降至。