ITO靶材回收流程：

1. 收集廢靶材：收集來(lái)源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

ITO靶材主流回收技術(shù)：

機(jī)械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學(xué)回收：利用酸堿進(jìn)行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來(lái)源中回收氧化銦是銦回收的一個(gè)重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過(guò)各種工藝實(shí)現(xiàn)，包括化學(xué)處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產(chǎn)各種半導(dǎo)體器件，從而減少對(duì)新銦資源的需求，并將銦開采對(duì)環(huán)境的影響降至。

目前，市場(chǎng)上已有不少專業(yè)的ITO靶材回收企業(yè)，他們通過(guò)先進(jìn)的回收技術(shù)和設(shè)備，將廢舊ITO靶材中的銦、錫等元素進(jìn)行有效分離和提純，再加工成新的靶材產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)了資源的循環(huán)利用。