ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

銦屬稀有金屬,是一種重要的電子工業(yè)材料,在高技術領域有著廣泛的應用,主要集中在半導體、透明導電涂層、電子器件、熒光材料、金屬有機物等方面。它在地殼中非常稀有而且分散,又稱之為稀散金屬,銦在地殼中的豐度很低,多種文獻報道不一,普遍認為僅011μg/g,至今以其為主要成分的礦床尚未發(fā)現(xiàn),它通常以微量(01005%)的組分共生于與其性質(zhì)類似的鋅、鉛、銅和錫等礦物上,一般是從鋅、鉛、銅和錫等重金屬冶煉的煙塵、熔渣中回收生產(chǎn)。

ITO靶材回收的必要性

1. 資源稀缺：銦為稀有金屬，資源有限，價格昂貴。

2. 成本控制：回收廢舊ITO靶材可降低企業(yè)原材料采購成本。

3. 環(huán)保要求：減少廢棄物排放，符合綠色生產(chǎn)理念。

ITO靶材回收注意事項：

措施：處理酸堿和廢液時需注意和環(huán)保。

環(huán)保合規(guī)：廢液和殘渣需達標處理，避免二次污染。

回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。