從物理性質(zhì)上看，ITO靶材具有以下幾個顯著特點：

高透明度：在可見光范圍內(nèi)（波長400-700納米），ITO薄膜的透光率可高達(dá)90%以上，幾乎與普通玻璃相當(dāng)。

優(yōu)異導(dǎo)電性：其電阻率通常在10??歐姆·厘米的量級，遠(yuǎn)低于大多數(shù)透明材料。

化學(xué)穩(wěn)定性：在常溫下，ITO對水、氧氣等環(huán)境因素表現(xiàn)出良好的抗腐蝕能力。

機(jī)械耐久性：ITO薄膜具備一定的硬度和耐磨性，能夠應(yīng)對日常使用中的輕微刮擦。

這些特性讓ITO靶材在實際應(yīng)用中游刃有余，尤其是在需要兼顧光學(xué)和電學(xué)性能的場景中。

在實際生產(chǎn)中，ITO靶材通常被加工成圓形或矩形的塊狀，與濺射設(shè)備配合使用。濺射過程中，靶材的質(zhì)量直接影響薄膜的均勻性、附著力和性能。因此，高質(zhì)量的ITO靶材不僅是技術(shù)要求，更是生產(chǎn)效率和產(chǎn)品可靠性的保障。

目前，ITO靶材的制備主要有兩種常見方法：熱壓燒結(jié)法和冷等靜壓法。

熱壓燒結(jié)法

工藝流程：將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后，放入模具，在高溫（1000-1500°C）和高壓（幾十到幾百兆帕）下壓制成型。高溫使粉末顆粒熔融結(jié)合，形成致密的靶材結(jié)構(gòu)。

優(yōu)點：這種方法制備的靶材密度接近理論值（通常超過99%），晶粒分布均勻，適合高精度鍍膜需求。

缺點：設(shè)備復(fù)雜，能耗高，生產(chǎn)成本較高。

適用場景：高端電子產(chǎn)品，如智能手機(jī)、平板電腦的顯示屏制造。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達(dá)90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導(dǎo)電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽能電池等光電設(shè)備的理想材料。其晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，電導(dǎo)率高，確保了設(shè)備的運行。