粉末冶金法：通過將銦粉末在高溫下壓制和燒結(jié)成型，可有效控制雜質(zhì)含量，能制造出形狀復(fù)雜的靶材，制得的靶材具有較高的致密度和均勻性。

熔煉法：將銦材料加熱至熔點以上，使其成為液態(tài)，然后通過鑄?；蚱渌尚凸に囍圃彀胁?，該方法簡單快捷，但控制純度和均勻性相對較難。

顯示領(lǐng)域：廣泛應(yīng)用于液晶顯示器（LCD）、有機發(fā)光二極管顯示器（OLED）等顯示器件的制造，用于形成透明導(dǎo)電薄膜，提高顯示器的性能和質(zhì)量。

濺射氣體控制

氣體純度：使用高純氬氣（99.999% 以上），避免氧氣、水汽混入導(dǎo)致銦靶氧化（氧化銦導(dǎo)電性下降，易形成電弧放電）。

氣壓調(diào)節(jié)：

直流濺射（DC）：氣壓通常為 0.1~10 Pa，低氣壓下濺射速率高但薄膜致密度低；高氣壓下薄膜均勻性好但沉積速率慢。

射頻濺射（RF）：適用于絕緣基底，氣壓可略高于直流濺射，需根據(jù)薄膜厚度要求動態(tài)調(diào)整。

防護措施

個人防護：操作時佩戴防靜電手套、護目鏡，避免直接接觸銦靶（銦金屬，但粉塵吸入可能刺激呼吸道，需在通風良好環(huán)境下操作）。

防火防爆：銦粉或碎屑屬于可燃固體（引燃溫度約 200℃），需遠離明火，廢棄靶材及碎屑應(yīng)收集于專用容器中，按危險廢棄物處理。

電磁屏蔽：射頻濺射時需確保設(shè)備接地良好，防止電磁輻射對操作人員或周邊儀器的干擾。