三氟化氮,NF3氣體在高能化學激光、電子工業(yè)(IC)以及太陽能光電產業(yè)等方面具有非常廣泛的應用。目前，黎明院擁有一條年產500噸的NF3生產線，其生產工藝、設備均處于國內先地位。

主要用途：

一是用作高能化學激光的氟源，二是作為電子工業(yè)(IC)中的蝕刻劑、清洗劑，三是應用于太陽能光電產業(yè)。

其它用途：生產全氟銨鹽，用作填充氣體以增加燈泡的壽命和亮度，在采礦和火箭技術中用作氧化劑等。

物化性質：

NF3在室溫和大氣壓力下是無色、穩(wěn)定和有毒的氣體。相對分子質量為71.002，沸點為-129.06℃。

NF3在室溫下較穩(wěn)定，但在800~1200℃下發(fā)生猛烈分解；NF3是一種有潛力的氧化劑，特別是在約200℃時，其反應性與氧相當；NF3在與其它元素反應時主要用作氟化劑；NF3在常溫下不與水、稀酸和稀堿溶液反應，但在100℃下與堿性溶液接觸時會緩慢水解生成亞硝酸鹽及氟化物，在電火花作用下，NF3可與水猛烈反應；NF3與H2或氫化物可快速反應并放出大量的熱，該反應是NF3用于高能化學激光器的基礎；NF3可與有機物作用，但通常需升高溫度以引發(fā)反應，因而常常發(fā)生爆炸；在低于70℃時NF3氣體對普通金屬不腐蝕，因此可用鋼、不銹鋼、鎳、銅和鋁等材料制作相關設備。

數(shù)據(jù)：

NF3是一種不可燃的壓縮氣體；

無氣味，但其中所含的雜質使它聞起來有發(fā)霉的氣味；

暴露很限： OSHA: PEL=10ppm. ACGIH: TWA/TLV=10ppm. NIOSH: 1000ppm.當進入濃度超過暴露很限的泄方區(qū)時需配備自給式呼吸器(SCBA)；

氧化劑，會引起或促進金屬和非金屬物質的燃燒，特別是溫度超過200℃時；燃燒產物有毒；

使用NF3的任何系統(tǒng)都不應有油、油脂和其它有機物；

存儲于鋼瓶中，壓力小于1500psig，盛裝NF3的氣瓶不允許在高于52℃的環(huán)境下使用、貯存和運輸。

包裝規(guī)格：

包裝：高壓無縫碳鋼鋼瓶

包裝規(guī)格：47L國標或DOT瓶、470L Y瓶等。

黎明化工研究設計院有限責任公司前身為黎明化工研究院，始建于1965年，主要從事化工新材料和化學推進劑及其原材料的研究開發(fā)。為航空航天事業(yè)、國防建設和經(jīng)濟發(fā)展做出了貢獻。

黎明化工研究設計院有限責任公司是家重點高新技術企業(yè)和省創(chuàng)新型企業(yè)，現(xiàn)有職工830余人，其中業(yè)技術人員約占54% 。公司總占地約45萬平方米，建筑面積約17萬平方米.

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